一般財団法人知的財産研究教育財団 知的財産研究所の招聘研究員制度（特許庁委託事業）により、6月4日に来日した、イリノイ大学のRunhua Wang博士（出身は中国 鞍山市）が1ヶ月間の日本での研究を終えて、米国に帰国されます。Wang博士は、日本人により出願された特許が各国にどのように分布しているかを、特許の価値を用いて分析し、それと各国の研究開発投資、日本からの輸出との関連を実証的に分析されました。一ヶ月間という短期間の間に、怒濤のごときデータ収集、分析の方向性構築、データによる分析結果の整理、分析結果から推測される日本企業や日本経済の特性の探究という、膨大な研究を成し遂げられました。今後は、米国に帰られてから、この研究をさらに進化される予定です。

　私は、知的財産研究所 上席研究員として、またIP経済研究所 所長研究者として、彼女の研究をサポートさせていただきました。中国の若い研究者のひたむきな研究姿勢に、改めて敬意を感じました。彼女のこれからの、研究者としてのさらなる飛躍を心から祈念したいと思います。